Experimental Observation of Negative Susceptance in HfO2-Based RRAM Devices
Producción Científica
| Autores: | , , , , , |
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| Formato: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2017 |
| País: | España |
| Recursos: | Universidad de Valladolid |
| Repositorio: | UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid |
| OAI Identifier: | oai:uvadoc.uva.es:10324/65984 |
| Acesso em linha: | https://doi.org/10.1109/LED.2017.2723054 https://uvadoc.uva.es/handle/10324/65984 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palavra-chave: | Hafnium oxide meminductor MIM capacitor |
| Resumo: | Producción Científica |
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