Electric and magnetic properties of atomic layer deposited ZrO2-HfO2 thin films

Producción Científica

Detalles Bibliográficos
Autores:	Kalam, Kristjan, Seemen, Helina, Mikkor, Mats, Ritslaid, Peeter, Stern, Raivo, Dueñas Carazo, Salvador, Castán Lanaspa, María Helena, Tamm, Aile, Kukli, Kaupo
Tipo de recurso:	artículo
Estado:	Versión publicada
Fecha de publicación:	2018
País:	España
Institución:	Universidad de Valladolid
Repositorio:	UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid
OAI Identifier:	oai:uvadoc.uva.es:10324/44663
Acceso en línea:	https://doi.org/10.1149/2.0041809jss http://uvadoc.uva.es/handle/10324/44663
Access Level:	acceso abierto
Palabra clave:	Thin films Láminas delgadas Atomic layer deposition Deposición atómica de capas

Descripción
Sumario:	Producción Científica