Improved physical models for advanced silicon device processing

Producción Científica

Detalles Bibliográficos
Autores: Pelaz Montes, María Lourdes, Marqués Cuesta, Luis Alberto, Aboy Cebrián, María, López Martín, Pedro, Santos Tejido, Iván
Tipo de recurso: artículo
Fecha de publicación:2017
País:España
Institución:Universidad de Valladolid
Repositorio:UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid
OAI Identifier:oai:uvadoc.uva.es:10324/28012
Acceso en línea:https://doi.org/10.1016/j.mssp.2016.11.007
http://uvadoc.uva.es/handle/10324/28012
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Silicon
Ion implantation
Silicio
Implantación de iones
Descripción
Sumario:Producción Científica

Similares en LA Referencia