Evidencia de la Regla Meyer-Neldel y su Relacion con las Propiedades de Transporte en Películas Delgadas de mc-Si

En este trabajo se presenta un estudio de la dependencia de la conductividad a oscuras con la temperatura en muestras de silicio microcristalino dopadas con Boro [mc-Si:H (B)]. Las muestras fueron depositadas por la técnica de deposición química en fase de vapor asistida por plasma (PECVD). Una seri...

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Detalles Bibliográficos
Autores: Mateus, H. M., Dussan, A., Buitrago, Roman Horacio
Tipo de recurso: artículo
Estado:Versión publicada
Fecha de publicación:2009
País:Argentina
Institución:Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas
Repositorio:CONICET Digital (CONICET)
Idioma:español
OAI Identifier:oai:ri.conicet.gov.ar:11336/17103
Acceso en línea:http://hdl.handle.net/11336/17103
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Conductividad
Silicio Policristalino
Pelicula Delgada
https://purl.org/becyt/ford/1.3
https://purl.org/becyt/ford/1
Descripción
Sumario:En este trabajo se presenta un estudio de la dependencia de la conductividad a oscuras con la temperatura en muestras de silicio microcristalino dopadas con Boro [mc-Si:H (B)]. Las muestras fueron depositadas por la técnica de deposición química en fase de vapor asistida por plasma (PECVD). Una serie de seis muestras fueron depositas sobre vidrio Corning 7059 variando la concentración de Boro de 0 a 100 ppm. Se calcula, a partir del gráfico de Arrhenius, las energías de activación en la región de altas temperaturas. Se observa que el conjunto de muestras, variando su composición, exhibe un comportamiento Meyer- Neldel (MNR) y se obtienen los valores del pre-factor exponencial MN (KBTMN) y la energía característica MN (EMN). Se realiza un estudio de las propiedades de transporte que rige este material y se establece una relación con la MNR evidenciada en las muestras.