Growth of InP on GaAs (001) by hydrogen-assisted low-temperature solid-source molecular beam epitaxy

5 pages, 4 figures.-- PACS nrs.: 68.55.Ag; 81.15.Hi.

Detalles Bibliográficos
Autores: Postigo, Pablo Aitor, Suárez Arias, Ferrán, Sanz-Hervás, A., Sangrador, J., Fonstad, C. G.
Tipo de recurso: artículo
Fecha de publicación:2008
País:España
Institución:Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
Repositorio:DIGITAL.CSIC. Repositorio Institucional del CSIC
OAI Identifier:oai:digital.csic.es:10261/11723
Acceso en línea:http://hdl.handle.net/10261/11723
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Gallium arsenide
III-V semiconductors
Indium compounds
Luminescence
Molecular beam epitaxial growth
Rapid thermal annealing
Reflection high energy electron diffraction
Semiconductor epitaxial layers
Semiconductor growth
X-ray diffraction
Descripción
Sumario:5 pages, 4 figures.-- PACS nrs.: 68.55.Ag; 81.15.Hi.