Homogeneity and thermal stability of sputtered Al0.7Sc0.3N thin films

Detalles Bibliográficos
Autores:	Carmona Cejas, José Manuel\|\|\|0000-0003-4307-2349, Mirea, Teona\|\|\|0000-0003-2324-4895, Nieto, Jesús, Olivares Roza, Jimena\|\|\|0000-0003-4396-4363, Felmetsger, Valery\|\|\|0000-0003-2940-1273, Clement Lorenzo, Marta\|\|\|0000-0003-4956-8206
Tipo de recurso:	artículo
Fecha de publicación:	2023
País:	España
Institución:	Universidad Politécnica de Madrid
Repositorio:	Archivo Digital UPM
OAI Identifier:	oai:oa.upm.es:84864
Acceso en línea:	https://oa.upm.es/84864/
Access Level:	acceso abierto
Palabra clave:	AlScN films 30% Sc-doped AlN reactive magnetron sputtering temperature stability FBAR BAW devices

Descripción
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