Atomistic modeling of ion implantation technologies in silicon

Producción Científica

Detalles Bibliográficos
Autores: Marqués Cuesta, Luis Alberto, Santos Tejido, Iván, Pelaz Montes, María Lourdes, López Martín, Pedro, Aboy Cebrián, María
Tipo de recurso: artículo
Fecha de publicación:2015
País:España
Institución:Universidad de Valladolid
Repositorio:UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid
OAI Identifier:oai:uvadoc.uva.es:10324/28015
Acceso en línea:https://doi.org/10.1016/j.nimb.2014.11.105
http://uvadoc.uva.es/handle/10324/28015
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Atomistic simulation
Multi-scale schemes
Silicio
Descripción
Sumario:Producción Científica