Marqués Cuesta, L. A., Santos Tejido, I., Pelaz Montes, M. L., López Martín, P., & Aboy Cebrián, M. (2015). Atomistic modeling of ion implantation technologies in silicon.
Citação norma ChicagoMarqués Cuesta, Luis Alberto, Iván Santos Tejido, María Lourdes Pelaz Montes, Pedro López Martín, y María Aboy Cebrián. Atomistic Modeling of Ion Implantation Technologies in Silicon. 2015.
Citação norma MLAMarqués Cuesta, Luis Alberto, et al. Atomistic Modeling of Ion Implantation Technologies in Silicon. 2015.
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