Study of TiN/Ti/HfO2/W resistive switching devices: characterization and modeling of the set and reset transitions using an external capacitor discharge
Producción Científica
| Autores: | , , , , , , , , |
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| Tipo de documento: | artigo |
| Estado: | Versão publicada |
| Data de publicação: | 2022 |
| País: | España |
| Recursos: | Universidad de Valladolid |
| Repositório: | UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid |
| OAI Identifier: | oai:uvadoc.uva.es:10324/58643 |
| Acesso em linha: | https://doi.org/10.1016/j.sse.2022.108385 https://uvadoc.uva.es/handle/10324/58643 |
| Access Level: | Acceso aberto |
| Palavra-chave: | Memristors Resisitive switching ReRAM Set processes Reset processes 33 Ciencias Tecnológicas 22 Física |
| Resumo: | Producción Científica |
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