Etching techniques for thinning silicon wafers for ultra thin high efficiency IBC solar cells

Treball final de màster oficial fet en col·laboració amb Universitat Autònoma de Barcelona (UAB), Universitat de Barcelona (UB) i Institut de Ciències Fotòniques (ICFO)

Detalles Bibliográficos
Autor: Afa, Iduabo John
Tipo de recurso: tesis de maestría
Fecha de publicación:2014
País:España
Institución:Universitat Politècnica de Catalunya (UPC)
Repositorio:UPCommons. Portal del coneixement obert de la UPC
Idioma:inglés
OAI Identifier:oai:upcommons.upc.edu:2099.1/23051
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/2099.1/23051
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Photolithography
Solar cells
IBC solar cells
Masked Etching
Reactive-ion etch
TMAH Etching
Células solares IBC
Grabado enmascarado
Grabado con iones reactivos
TMAH Grabado
Fotolitografia
Cèl·lules solars
Àrees temàtiques de la UPC::Energies::Energia solar fotovoltaica::Cèl·lules solars
Descripción
Sumario:Treball final de màster oficial fet en col·laboració amb Universitat Autònoma de Barcelona (UAB), Universitat de Barcelona (UB) i Institut de Ciències Fotòniques (ICFO)