Obtención de películas delgadas de sub-óxidos de titanio (TiOx con 0<x<2)
Se prepararon películas delgadas de óxidos de titanio mediante la técnica de rf-sputtering reactivo con magnetrón a partir de un blanco de titanio metálico y en un plasma argón/oxígeno. Con el propósito de obtener películas con deficiencias de oxígeno (TiOx con 0<x<2) en distinta proporción, e...
| Autores: | , |
|---|---|
| Tipo de recurso: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2010 |
| País: | México |
| Institución: | Instituto Politécnico Nacional |
| Repositorio: | Repositorio Digital del IPN |
| OAI Identifier: | oai:www.repositoriodigital.ipn.mx:123456789/11234 |
| Acceso en línea: | http://hdl.handle.net/123456789/744 http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/11234 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Obtencion de peliculas delgadas oxidos de titanio |
| Sumario: | Se prepararon películas delgadas de óxidos de titanio mediante la técnica de rf-sputtering reactivo con magnetrón a partir de un blanco de titanio metálico y en un plasma argón/oxígeno. Con el propósito de obtener películas con deficiencias de oxígeno (TiOx con 0<x<2) en distinta proporción, el flujo de oxígeno inyectado a la cámara de depósito fué variado para el crecimiento de cada una de las películas. La caracterización por espectroscopía UV-Vis mostró que los distintos flujos de oxígeno utilizados modifican el tipo de material que forma las películas, lo cual es reflejado como un cambio en la transmisión óptica de estas. A partir de las curvas de transmisión óptica se construyeron curvas de Tauc [1] de las cuales se calculó el ancho de banda de energía prohibida (gap) de las películas. El gap depende de manera no lineal con el flujo de oxígeno con que las películas fueron preparadas y tiende hacia un valor 3.34 eV a medida que el flujo de oxígeno se incrementa. |
|---|