Procesamiento de películas PZT mediante CVD-AA, cerca a la zona morfotrópica y caracterización de sus propiedades microestructurales, ferroeléctricas y mecánicas
En las últimas cuatro décadas el desarrollo de la industria micro-electrónica ha dado la pauta en la tendencia de la producción de materiales ultra finos (con micro estructura manométrica) y ultra puros (sin impurezas, ni defectos) que garanticen un incremento en la eficiencia funcional de sus parte...
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| Tipo de recurso: | tesis doctoral |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2013 |
| País: | México |
| Institución: | Centro de Investigación en Materiales Avanzados |
| Repositorio: | Fuente de Objetos Científicos Open Access del CIMAV |
| Idioma: | español |
| OAI Identifier: | oai:cimav.repositorioinstitucional.mx:1004/47 |
| Acceso en línea: | http://cimav.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1004/47 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | info:eu-repo/classification/cti/2 info:eu-repo/classification/cti/23 |
| Sumario: | En las últimas cuatro décadas el desarrollo de la industria micro-electrónica ha dado la pauta en la tendencia de la producción de materiales ultra finos (con micro estructura manométrica) y ultra puros (sin impurezas, ni defectos) que garanticen un incremento en la eficiencia funcional de sus partes con el menor volumen posible. Las aplicaciones involucradas como memorias, sensores, transductores, actuadores, etc. están basadas casi en su totalidad en materiales ferroelectricos del tipo Titanito de Bario (BaTiO3), Titanato de Plomo (PbTiO3) ó Titanato Zirconato de Plomo Pb (ZrxTi1-x)O3 (PZT) en forma de películas delgadas. En todas las aplicaciones mencionadas, pero particularmente en los actuadores se presentan problemas de origen eléctrico o mecánico asociados con la degradación de estos materiales. Su buen funcionamiento se basa en el control de sus propiedades microestructurales, ferroeléctricas y mecánicas a escala microscópica principalmente, las cuales en la actualidad se desconoce mucho de ellas. Por otro lado, en la síntesis de películas delgadas indistintos métodos (físicos o químicos) como erosión catódica, sembrado de iones, sol-gel, depositación química de vapor (CVD) con sus diferentes versiones, entre otros pueden ser utilizados. CVD-AA es un método químico de depositación asistido por aerosol muy utilizado ya que dentro de sus principales ventajas se encuentran 1) facilidad de agregar dopantes en cualquier proporción a la película tan solo con el hecho de introducirlos a la solución precursora, 2) el método no requiere de partes costosas como bombas de alto vacío u otros dispositivos, representando una gran ventaja en instalaciones a nivel industrial. |
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