Películas de óxido de hafnio impurificadas con disprosio (HfO2:Dy)
Se prepararán películas delgadas de óxido de hafnio estequiométricas e impurificadas con disprosio mediante la técnica de rocío pirolítico ultrasónico. Las películas se depositarán sobre substratos de vidrio corning, empleando cloruros como materiales precursores. Los depósitos se llevarán a cabo va...
| Autores: | , |
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| Tipo de recurso: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2008 |
| País: | México |
| Institución: | Instituto Politécnico Nacional |
| Repositorio: | Repositorio Digital del IPN |
| OAI Identifier: | oai:www.repositoriodigital.ipn.mx:123456789/11078 |
| Acceso en línea: | http://hdl.handle.net/123456789/589 http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/11078 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | oxido de hafnio |
| Sumario: | Se prepararán películas delgadas de óxido de hafnio estequiométricas e impurificadas con disprosio mediante la técnica de rocío pirolítico ultrasónico. Las películas se depositarán sobre substratos de vidrio corning, empleando cloruros como materiales precursores. Los depósitos se llevarán a cabo variando las concentraciones del impurificante y las temperaturas de depósito, con el fin de determinar las condiciones óptimas de depósito que permitan la síntesis de películas con las mejores propiedades luminiscentes. Se reportará el estudio de las características estructurales, morfológicas, ópticas y de composición química, así como la evaluación del comportamiento luminiscente de las películas. |
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