Propiedades luminiscentes de películas de HfO2 impurificadas con disprosio
Se llevó a cabo la caracterización fotoluminiscente (espectros de emisión FL) de películas delgadas de óxido de hafnio estequiométricas e impurificadas con disprosio depositadas por la técnica de rocío pirolítico ultrasónico. Las películas se depositaron sobre substratos de vidrio, empleando cloruro...
| Autores: | , |
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| Tipo de recurso: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2009 |
| País: | México |
| Institución: | Instituto Politécnico Nacional |
| Repositorio: | Repositorio Digital del IPN |
| OAI Identifier: | oai:www.repositoriodigital.ipn.mx:123456789/10848 |
| Acceso en línea: | http://hdl.handle.net/123456789/351 http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10848 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Propiedades luminiscentes disprosio |
| Sumario: | Se llevó a cabo la caracterización fotoluminiscente (espectros de emisión FL) de películas delgadas de óxido de hafnio estequiométricas e impurificadas con disprosio depositadas por la técnica de rocío pirolítico ultrasónico. Las películas se depositaron sobre substratos de vidrio, empleando cloruros como materiales precursores. Los depósitos se llevaron a cabo variando las concentraciones del impurificante y las temperaturas de depósito, se determinaron las condiciones óptimas de depósito que permiten la síntesis de películas con las mejores propiedades luminiscentes. Se reporta el estudio de las características ópticas de las películas. |
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