Propiedades estructurales, ópticas y eléctricas de películas delgadas de SnO2:F depositadas por rocío pirolítico pulsado
Se depositaron por la t ́ ecnica de roc ́ ıo qu ́ ımico pulsado pel ́ ıculas delgadas de FTO para ser usadas como sustrato de pel ́ ıculas electrocr ́ omicas de WO 3 : Se vari ́ o en la soluci ́ on de partida la relaci ́ on SnCl 4 /NH 4 F para inducir cambios estequiom ́ etricos y estructurales que...
| Autores: | , |
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| Tipo de recurso: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2007 |
| País: | México |
| Institución: | Universidad Nacional Autónoma de México |
| Repositorio: | Redalyc-UNAM |
| OAI Identifier: | oai:redalyc.org:57028299006 |
| Acceso en línea: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57028299006 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Física, Astronomía y Matemáticas rocío pirolítico Películas delgadas oxido de estaño dopado con fluor |
| Sumario: | Se depositaron por la t ́ ecnica de roc ́ ıo qu ́ ımico pulsado pel ́ ıculas delgadas de FTO para ser usadas como sustrato de pel ́ ıculas electrocr ́ omicas de WO 3 : Se vari ́ o en la soluci ́ on de partida la relaci ́ on SnCl 4 /NH 4 F para inducir cambios estequiom ́ etricos y estructurales que favorezcan la incorporaci ́ on de iones Sn en el WO 3 durante el proceso electrocr ́ omico. La diferentes pel ́ ıculas mostraron una transmitancia ́ optica similar pero las depositadas con valor bajo en la relaci ́ on SnCl 4 /NH 4 F, mostraron un aumento en la resistividad el ́ ectrica superficial. Se investigaron las propiedades estructurales por difracci ́ on de rayos X, microscop ́ ıa electr ́ onica y de fuerza at ́ omica y los resultados se correlacionaron cuando fue posible con las propiedades ́ opticas y el ́ ectricas. La influencia de las condiciones de dep ́ osito del FTO en el comportamiento electrocr ́ omico del sistema WO 3 /FTO es presentada en forma limitada en este trabajo. |
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