Ion-induced lateral damage in the focused ion beam patterning of topological insulator Bi2Se3 thin films

This article belongs to the Topic Advances in Functional Thin Films.

Detalles Bibliográficos
Autores: Gracia-Abad, Rubén, Sangiao, Soraya, Kumar Chaluvadi, Sandeep, Orgiani, Pasquale, Teresa, José María de
Tipo de recurso: artículo
Estado:Versión publicada
Fecha de publicación:2023
País:España
Institución:Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
Repositorio:DIGITAL.CSIC. Repositorio Institucional del CSIC
OAI Identifier:oai:digital.csic.es:10261/343879
Acceso en línea:http://hdl.handle.net/10261/343879
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Topological insulators
Irradiation damage
Bi2Se3
Patterning
Focused ion beam
Descripción
Sumario:This article belongs to the Topic Advances in Functional Thin Films.

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