Stopping power dependence of nitrogen sputtering yields in copper nitride films under swift-ion irradiation: Exciton model approach
| Autores: | , , , , |
|---|---|
| Tipo de recurso: | artículo |
| Fecha de publicación: | 2012 |
| País: | España |
| Institución: | Universidad Politécnica de Madrid |
| Repositorio: | Archivo Digital UPM |
| OAI Identifier: | oai:oa.upm.es:15216 |
| Acceso en línea: | https://oa.upm.es/15216/ |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Copper nitride Ion beam modification of materials Swift heavy ion irradiation Electronic sputtering |
| Descripción no disponible. |