Directed self-assembly of block copolymers for the fabrication of nanomechanical structures
El principal objectiu d'aquesta tesi, titulada "autoensamblatge dirigit de copolímers de bloc per a la fabricació d'estructures nanomecàniques", és demostrar la possibilitat de fabricar estructures nanomecàniques funcionals mitjançant el autoensamblatge dirigit (DSA) de copolímer...
| Author: | |
|---|---|
| Format: | doctoral thesis |
| Status: | Published version |
| Publication Date: | 2021 |
| Country: | España |
| Institution: | CBUC, CESCA |
| Repository: | TDR. Tesis Doctorales en Red |
| OAI Identifier: | oai:www.tdx.cat:10803/671972 |
| Online Access: | http://hdl.handle.net/10803/671972 |
| Access Level: | Open access |
| Keyword: | Nanofabricació Nanofabricación Nanofabrication Litografia Litografía Lithography Copolímers de bloc Copolímeros de bloque Block copolymers Tecnologies 62 |
| Summary: | El principal objectiu d'aquesta tesi, titulada "autoensamblatge dirigit de copolímers de bloc per a la fabricació d'estructures nanomecàniques", és demostrar la possibilitat de fabricar estructures nanomecàniques funcionals mitjançant el autoensamblatge dirigit (DSA) de copolímers de bloc (BCPs) com a tècnica de nanoestructuració . El DSA és una tècnica de nanolitografía bottom-up basada en la capacitat que tenen els BCPs de segregar en dominis d'escala micro / nanomètrica. Gràcies a la seva alta resolució, alt rendiment i baix cost, aquesta tècnica ha estat molt estudiada per la indústria de semiconductors per nanoelectrònica, però també ha estat aplicada en altres camps que requereixen d'una alta densitat d'elements a escala nanomètrica. En aquesta tesi presentem un procés innovador basat en DSA que demostra ser apte per a la fabricació de sistemes nanomecànics. Vam demostrar la fabricació de membranes de silici suspeses ancorades per matrius de gran nombre de nanofils de silici emprant la grafoepitaxia de poliestirè-b-polimetilmetacrilat (PS-b-PMMA), un dels BCP més estesos. Els dispositius obtinguts poden desenvolupar-se per construir sensors de massa d'alta sensibilitat basats en ressonadors nanomecànics. |
|---|