Directed self-assembly of block copolymers for the fabrication of nanomechanical structures

El principal objectiu d'aquesta tesi, titulada "autoensamblatge dirigit de copolímers de bloc per a la fabricació d'estructures nanomecàniques", és demostrar la possibilitat de fabricar estructures nanomecàniques funcionals mitjançant el autoensamblatge dirigit (DSA) de copolímer...

ver descrição completa

Detalhes bibliográficos
Autor: Pinto Gómez, Christian
Tipo de documento: tese
Estado:Versão publicada
Data de publicação:2021
País:España
Recursos:CBUC, CESCA
Repositório:TDR. Tesis Doctorales en Red
OAI Identifier:oai:www.tdx.cat:10803/671972
Acesso em linha:http://hdl.handle.net/10803/671972
Access Level:Acceso aberto
Palavra-chave:Nanofabricació
Nanofabricación
Nanofabrication
Litografia
Litografía
Lithography
Copolímers de bloc
Copolímeros de bloque
Block copolymers
Tecnologies
62
Descrição
Resumo:El principal objectiu d'aquesta tesi, titulada "autoensamblatge dirigit de copolímers de bloc per a la fabricació d'estructures nanomecàniques", és demostrar la possibilitat de fabricar estructures nanomecàniques funcionals mitjançant el autoensamblatge dirigit (DSA) de copolímers de bloc (BCPs) com a tècnica de nanoestructuració . El DSA és una tècnica de nanolitografía bottom-up basada en la capacitat que tenen els BCPs de segregar en dominis d'escala micro / nanomètrica. Gràcies a la seva alta resolució, alt rendiment i baix cost, aquesta tècnica ha estat molt estudiada per la indústria de semiconductors per nanoelectrònica, però també ha estat aplicada en altres camps que requereixen d'una alta densitat d'elements a escala nanomètrica. En aquesta tesi presentem un procés innovador basat en DSA que demostra ser apte per a la fabricació de sistemes nanomecànics. Vam demostrar la fabricació de membranes de silici suspeses ancorades per matrius de gran nombre de nanofils de silici emprant la grafoepitaxia de poliestirè-b-polimetilmetacrilat (PS-b-PMMA), un dels BCP més estesos. Els dispositius obtinguts poden desenvolupar-se per construir sensors de massa d'alta sensibilitat basats en ressonadors nanomecànics.