High aspect-ratio sub-500 nm UV-PDMS bilayer stamps by means of hybrid thermal-ultraviolet curing for resonant nanopillars fabrication through soft UV-NIL
| Autores: | , , , |
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| Tipo de recurso: | artículo |
| Fecha de publicación: | 2023 |
| País: | España |
| Institución: | Universidad Politécnica de Madrid |
| Repositorio: | Archivo Digital UPM |
| OAI Identifier: | oai:oa.upm.es:94420 |
| Acceso en línea: | https://oa.upm.es/94420/ |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | arrays Degradation IMPRINT MOLD RELEASE Nanoholes Nanopillars Performance RNPs Soft UV-NIL UV-PDMS NANOHOLES nanopillars NIL Silicon Dioxide |
| Descripción no disponible. |