Microstructure and composition evolution of He charged solid-gas nanocomposite films of different matrix elements during thermal annealing in vacuum

Chemicals and CAS Registry Numbers cobalt 7440-48-4 helium 7440-59-7 silicon 7440-21-3 zirconium 14940-68-2, 7440-67-7

Detalles Bibliográficos
Autores:	Fernández-Camacho, A., de Haro, M Carmen Jiménez, Hufschmidt, Dirk, Montes, Olga, Sauvage, Thierry, Ferrer, F Javier, Caillard, Amaël, Brault, Pascal, Thomann, Anne-Lise
Tipo de recurso:	artículo
Estado:	Versión publicada
Fecha de publicación:	2025
País:	España
Institución:	Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
Repositorio:	DIGITAL.CSIC. Repositorio Institucional del CSIC
OAI Identifier:	oai:digital.csic.es:10261/398642
Acceso en línea:	http://hdl.handle.net/10261/398642 https://api.elsevier.com/content/abstract/scopus_id/105009542761
Access Level:	acceso abierto
Palabra clave:	Si and Zr 4He and 3He charged thin films Helium assisted magnetron sputtering of Co Helium release by thermal annealing IBA analysis Microstructural characterization Nanobubbles and nanopores

Descripción
Sumario:	Chemicals and CAS Registry Numbers cobalt 7440-48-4 helium 7440-59-7 silicon 7440-21-3 zirconium 14940-68-2, 7440-67-7