Silicon oxide-niobium oxide mixture films and nanolaminates grown by atomic layer deposition from niobium pentaethoxide and hexakis(ethylamino) disilane

Producción Científica

Detalles Bibliográficos
Autores:	Kukli, Kaupo, Kemell, Marianna, Heikkilä, Mikko J, Castán Lanaspa, María Helena, Dueñas Carazo, Salvador, Mizohata, Kenichiro, Ritala, Mikko, Leskelä, Markku
Tipo de recurso:	artículo
Estado:	Versión aceptada para publicación
Fecha de publicación:	2020
País:	España
Institución:	Universidad de Valladolid
Repositorio:	UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid
OAI Identifier:	oai:uvadoc.uva.es:10324/45172
Acceso en línea:	https://doi.org/10.1088/1361-6528/ab6fd6 http://uvadoc.uva.es/handle/10324/45172
Access Level:	acceso abierto
Palabra clave:	Deposición de capa atómica Atomic layer deposition 2202 Electromagnetismo

Descripción
Sumario:	Producción Científica