Modelo dinámico de incorporación de oxígeno incidente sobre sustratos de silicio durante análisis de espectrometría de masas de iones secundarios
| Autor: | |
|---|---|
| Tipo de recurso: | tesis doctoral |
| Fecha de publicación: | 2002 |
| País: | España |
| Institución: | Universidad Politécnica de Madrid |
| Repositorio: | Archivo Digital UPM |
| OAI Identifier: | oai:oa.upm.es:830 |
| Acceso en línea: | https://oa.upm.es/830/ |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | APARATOS CIENTIFICOS TECNOLOGIA DE LA INSTRUMENTACION SEMICONDUCTORES |
| Descripción no disponible. |