Nano-oxidation of silicon surfaces by noncontact atomic-force microscopy: Size dependence on voltage and pulse duration
3 pages, 3 figures.-- PACS: 81.65.Mq; 81.05.Cy; 07.79.Lh; 85.40.Ux
| Autores: | , |
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| Tipo de recurso: | artículo |
| Fecha de publicación: | 2000 |
| País: | España |
| Institución: | Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC) |
| Repositorio: | DIGITAL.CSIC. Repositorio Institucional del CSIC |
| OAI Identifier: | oai:digital.csic.es:10261/21726 |
| Acceso en línea: | http://hdl.handle.net/10261/21726 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Silicon Oxidation Elemental semiconductors Atomic force microscopy |
| Sumario: | 3 pages, 3 figures.-- PACS: 81.65.Mq; 81.05.Cy; 07.79.Lh; 85.40.Ux |
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