Organización espontánea de puntos cuánticos de InSb crecidos por ALMBE sobre substratos de InP

El crecimiento autoorganizado de puntos cuánticos de InSb sobre substratos de InP mediante epitaxia de haces moleculares ha sido caracterizado mediante microscopía electrónica de transmisión y microscopía de fuerzas atómicas a fin de estudiar la morfología y establecer el mecanismo de relajación de...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores: Ferrer, J. C., Peiró Martínez, Francisca, Cornet i Calveras, Albert, Morante i Lleonart, Joan Ramon, Uztmeier, T., Armelles Reig, G., Briones Fernández-Pola, Fernando
Tipo de recurso: artículo
Estado:Versión publicada
Fecha de publicación:1997
País:España
Institución:Varias* (Consorci de Biblioteques Universitáries de Catalunya, Centre de Serveis Científics i Acadèmics de Catalunya)
Repositorio:Recercat. Dipósit de la Recerca de Catalunya
OAI Identifier:oai:recercat.cat:2445/97145
Acceso en línea:https://hdl.handle.net/2445/97145
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Microscòpia electrònica de transmissió
Microscòpia de força atòmica
Electrons
Materials nanoestructurats
Nanocristalls semiconductors
Transmission electron microscopy
Atomic force microscopy
Electrones
Nanostructured materials
Semiconductor nanocrystals
Descripción
Sumario:El crecimiento autoorganizado de puntos cuánticos de InSb sobre substratos de InP mediante epitaxia de haces moleculares ha sido caracterizado mediante microscopía electrónica de transmisión y microscopía de fuerzas atómicas a fin de estudiar la morfología y establecer el mecanismo de relajación de las estructuras. Medidas de difracción de electrones de alta energía durante el crecimiento de las muestras indican una transición en el modo de crecimiento de bidimensional a tridimensional a partir de un espesor total equivalente depositado de 1.1 monocapas atómicas de InSb. Los puntos cuánticos tienen en general, una buena calidad cristalina así como una distribución superficial homogénea, pero una alta anisotropía en las dimensiones entre las direcciones [110] y [110]. Así mismo, se encuentra una rugosidad superficial, también afectada de un alto grado de anisotropía, siendo las crestas y los valles paralelos a la dirección de elongación de las islas. Las imágenes de microscopía electrónica revelan un facetado de las estructuras según planos (001) que las limitan por la parte superior y planos {111}, {113} y {114}, que las limitan lateralmente. Las tensiones son eficazmente relajadas por la presencia de una red de dislocaciones situada en la interficie InSb/InP.