Inhomogeneous HfO2 layer growth at atomic layer deposition

Producción Científica

Detalles Bibliográficos
Autores: Kasikov, Aarne, Tarre, Aivar, Vinuesa Sanz, Guillermo
Tipo de recurso: artículo
Estado:Versión publicada
Fecha de publicación:2023
País:España
Institución:Universidad de Valladolid
Repositorio:UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid
OAI Identifier:oai:uvadoc.uva.es:10324/66161
Acceso en línea:https://doi.org/10.2478/jee-2023-0031
https://uvadoc.uva.es/handle/10324/66161
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:hafnium thin films
spectroscopic ellipsometry
growth inhomogeneity
atomic layer deposition
packing density
resistive switching
filament formation
Descripción
Sumario:Producción Científica

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