Influence of film thickness on the crystallization of Ni-doped amorphous silicon samples

Detalles Bibliográficos
Autor: Zanatta, Antonio Ricardo
Tipo de recurso: artículo
Estado:Versión publicada
Fecha de publicación:2008
País:Brasil
Institución:Universidade de São Paulo (USP)
Repositorio:Repositório Institucional da USP (Biblioteca Digital da Produção Intelectual)
Idioma:inglés
OAI Identifier:001681669
Acceso en línea:https://doi.org/10.1063/1.2955457
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