Otimização de parâmetros no processo de pulverização catódica "Sputtering" em substrato particulado
| Autor: | |
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| Tipo de recurso: | tesis doctoral |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2023 |
| País: | Brasil |
| Institución: | Pontifícia Universidade Católica do Rio Grande do Sul (PUCRS) |
| Repositorio: | Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da PUC_RS |
| Idioma: | portugués |
| OAI Identifier: | oai:tede2.pucrs.br:tede/11071 |
| Acceso en línea: | https://tede2.pucrs.br/tede2/handle/tede/11071 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Sputtering Semicondutor Pó Nanopartículas de Ouro Semiconductor Powder Gold Nanoparticles ENGENHARIAS |
| Descripción no disponible. |