Effect of the plasma composition on the structural and electronic properties of as-grown SiOx/Si heterolayers depositedby reactive sputtering

CONACYT, IPN

Detalles Bibliográficos
Autores: Mota, Esteban, Melendez, Miguel, Zapata, Martin, Perez, Armando, Santana, Miguel, Del angel, Pedro
Tipo de recurso: artículo
Estado:Versión publicada
Fecha de publicación:2009
País:México
Institución:Instituto Politécnico Nacional
Repositorio:Repositorio Digital del IPN
OAI Identifier:oai:www.repositoriodigital.ipn.mx:123456789/10661
Acceso en línea:http://hdl.handle.net/123456789/143
http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/10661
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:SiOx
Si
Descripción
Sumario:CONACYT, IPN