Estudio de la evolución del comportamiento magnético dependiente del espesor en películas de Mn3Ga elaboradas mediante erosión catódica
El desarrollo de la tecnología constate abarca diferentes rubros, desde el área alimenticia, textil, aeronáutica y microelectrónica, por lo que, para poder desarrollar nuevos dispositivos es necesario recurrir a la unión de materiales químicos que permitan un avance en estos diferentes campos. Actua...
| Autores: | , |
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| Tipo de documento: | dissertação |
| Estado: | Versão publicada |
| Data de publicação: | 2014 |
| País: | México |
| Recursos: | Centro de Investigación en Materiales Avanzados |
| Repositório: | Fuente de Objetos Científicos Open Access del CIMAV |
| Idioma: | espanhol |
| OAI Identifier: | oai:cimav.repositorioinstitucional.mx:1004/192 |
| Acesso em linha: | http://cimav.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1004/192 |
| Access Level: | Acceso aberto |
| Palavra-chave: | info:eu-repo/classification/cti/2 info:eu-repo/classification/cti/23 |
| Resumo: | El desarrollo de la tecnología constate abarca diferentes rubros, desde el área alimenticia, textil, aeronáutica y microelectrónica, por lo que, para poder desarrollar nuevos dispositivos es necesario recurrir a la unión de materiales químicos que permitan un avance en estos diferentes campos. Actualmente para alcanzar tales objetivos es necesaria la aplicación de la Nanociencia y Nanotecnología, que esta última, tienen como finalidad estudiar, diseñar y fabricar nuevas aplicaciones prácticas. Tomando estos preceptos, se hace una extrapolación hacia el área de la microelectrónica, con la finalidad y propósito de este proyecto de encontrar mejoras en el almacenamiento de información por medio de dispositivos magnéticos, por lo que, el presente trabajo tiene como objetivo elaborar películas delgadas de Mn3Ga sobre un sustrato de SiO2/Si(001) con diferentes espesores, así como, identificar la composición química, fases cristalinas presentes en el material, evolución morfológica y saturación en magnetización para su posterior aplicación en memorias magnéticas. Para la elaboración de las películas delgadas, se utilizó la técnica de erosión catódica también conocida como Sputtering, determinando los parámetros adecuados para su crecimiento en el sustrato, como lo son la presión de trabajo, temperatura y potencia suministrada al magnetrón. Así mismo, se controlaron los niveles de gas Argón (Ar) para la generación del plasma, permitiendo que el blanco (target) colocado en el magnetrón se lleve a cabo el crecimiento del Mn3Ga sobre el sustrato de SiO2/Si(001). Por medio de ésta técnica, se realizaron muestras con espesores de 2, 5, 10 y 50 nm. |
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