Síntesis y caracterización de películas delgadas de nitruro de cobre intercalado con plata
El propósito de este trabajo fue el crecimiento de películas de nitruro de cobre ynitruro de cobre intercalado con plata, mediante la técnica pulverización catódicareactiva DC asistida por magnetrón, utilizando vidrio como substratos y un blancode cobre en un ambiente de argón y nitrógeno. El crecim...
| Autor: | |
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| Tipo de recurso: | tesis de maestría |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2009 |
| País: | México |
| Institución: | Centro de Investigación Científica y de Educación Superior de Ensenada |
| Repositorio: | Repositorio Institucional CICESE |
| Idioma: | español |
| OAI Identifier: | oai:cicese.repositorioinstitucional.mx:1007/1026 |
| Acceso en línea: | http://cicese.repositorioinstitucional.mx/jspui/handle/1007/1026 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | info:eu-repo/classification/Autor/Películas de nitruro de cobre info:eu-repo/classification/cti/1 info:eu-repo/classification/cti/22 info:eu-repo/classification/cti/2299 |
| Sumario: | El propósito de este trabajo fue el crecimiento de películas de nitruro de cobre ynitruro de cobre intercalado con plata, mediante la técnica pulverización catódicareactiva DC asistida por magnetrón, utilizando vidrio como substratos y un blancode cobre en un ambiente de argón y nitrógeno. El crecimiento de las películas serealizó a diferentes flujos de N<sub>2</sub> en un intervalo de 2 a 5 sccm. Para intercalar laplata en el nitruro de cobre se realizaron incrustaciones de plata sobre el blancode cobre antes de realizar los depósitos. En este trabajo, presentamos resultadosde las propiedades estructurales, ópticas y eléctricas. La composición elementalde los depósitos fue estudiada de manera in situ por las espectroscopías deelectrones Auger y de fotoemisión de electrones. Los resultados de estasespectroscopías muestran que es posible obtener películas estequiométricas denitruro de cobre (Cu<sub>3</sub>N) y nitruro de cobre intercalado con plata (Cu<sub>3</sub>N:Ag). Los análisis de difracción de rayos X muestran que las películas presentan una orientación preferencial en la dirección [111]. Los parámetros de red se obtuvierona partir de los difractogramas de rayos X, los cuales están entre 3.81 y 3.84 A paranitruro de cobre y de 3.83 a 3.86 A para los depósitos de nitruro de cobreintercalado con plata. La determinación de las propiedades ópticas se obtuvieron apartir de espectros de transmitancia, mostrando energías de ancho de bandaprohibida de 1.84 a 1.99 eV. Las propiedades eléctricas de las películas seestudiaron en función del parámetro de red; estos resultados muestran unaumento en la resistividad conforme el parámetro de red disminuye. Se concluyeque la resistividad del nitruro de cobre intercalado con plata es más pequeña(orden ~10<sup>-5</sup> Ohms cm) que las muestras de nitruro de cobre. |
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