Caracterización fotoluminiscente de películas de HfO2:Dy3+ depositadas por la técnica de rocío pirolítico ultrasónico
Se reporta la caracterización luminiscente por medio de espectroscopia fotoluminiscente, de películas de óxido de hafnio impurificas con disprosio sintetizadas por rocío pirolítico ultrasónico, variando las concentraciones del impurificante en 1, 1.5, 2, 3, 5, 10 y 20 % atómico de disprosio con resp...
| Autores: | , |
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| Tipo de recurso: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2010 |
| País: | México |
| Institución: | Instituto Politécnico Nacional |
| Repositorio: | Repositorio Digital del IPN |
| OAI Identifier: | oai:www.repositoriodigital.ipn.mx:123456789/11645 |
| Acceso en línea: | http://hdl.handle.net/123456789/1166 http://www.repositoriodigital.ipn.mx/handle/123456789/11645 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | películas de HfO2:Dy3+ rocio pirolitico |
| Sumario: | Se reporta la caracterización luminiscente por medio de espectroscopia fotoluminiscente, de películas de óxido de hafnio impurificas con disprosio sintetizadas por rocío pirolítico ultrasónico, variando las concentraciones del impurificante en 1, 1.5, 2, 3, 5, 10 y 20 % atómico de disprosio con respecto a la cantidad de hafnio en la solución precursora y las temperaturas de depósito en el rango de 300 a 600 °C con incrementos de 100 °C. |
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