Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)

Los materiales ferroeléctricos se caracterizan por retener un dipolo eléctrico permanente en ausencia de campo eléctrico. Debido a esta peculiaridad, los materiales ferroeléctricos podrían ser usados como memorias ferroeléctricas de acceso aleatorio (FERAMs), lo que revolucionaría el almacenamiento...

ver descrição completa

Detalhes bibliográficos
Autor: Hernández Martín , David
Formato: tesis de maestría
Fecha de publicación:2012
País:España
Recursos:Universidad Complutense de Madrid (UCM)
Repositorio:Docta Complutense
Idioma:español
OAI Identifier:oai:docta.ucm.es:20.500.14352/46428
Acesso em linha:https://hdl.handle.net/20.500.14352/46428
Access Level:acceso abierto
Palavra-chave:539.216.2
537.31
Ferroelectricidad
Película Delgada
Polarización Remanente
Dominios Ferroeléctricos
Relajación Dieléctrica
Ferroelectricity
Thin Film
Remanent Polarization
Ferroelectric Domains
Dielectric Relaxation
Física de materiales
Electricidad
2202.03 Electricidad
id ES_fb0a0a4e2fa7a4dd1226e0cefaa2b8ab
oai_identifier_str oai:docta.ucm.es:20.500.14352/46428
network_acronym_str ES
network_name_str España
repository_id_str
spelling Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)Hernández Martín , David539.216.2537.31FerroelectricidadPelícula DelgadaPolarización RemanenteDominios FerroeléctricosRelajación DieléctricaFerroelectricityThin FilmRemanent PolarizationFerroelectric DomainsDielectric RelaxationFísica de materialesElectricidad2202.03 ElectricidadLos materiales ferroeléctricos se caracterizan por retener un dipolo eléctrico permanente en ausencia de campo eléctrico. Debido a esta peculiaridad, los materiales ferroeléctricos podrían ser usados como memorias ferroeléctricas de acceso aleatorio (FERAMs), lo que revolucionaría el almacenamiento de datos en los dispositivos electrónicos. En este trabajo, presentamos un experimento de caracterización de películas delgadas ferroeléctricas de titanato de bario. Utilizando sustratos de titanato de estroncio, hemos crecido 30 nm de manganita de lantano estroncio, que por su carácter metálico sirve como electrodo, y sobre ella películas delgadas de titanato de bario con espesores entre 20nm y 100nm. Utilizando una máscara mecánica se han depositado posteriormente electrodos de platino para la caracterización de sus propiedades ferroeléctricas. Se ha medido la variación con la temperatura de la polarización remanente y del campo coercitivo de muestras con distintos espesores de titanato de bario. Asimismo, se ha estudiado la dinámica de los dominios ferroeléctricos, estimando el tiempo de respuesta de los dominios ferroeléctricos al campo eléctrico en aproximadamente 1ms. [ABSTRACT] The ferroelectric materials retain a permanent electric dipole in the absence of an electric field. Due to this feature, they might be potentially used in ferroelectric random access memory (FERAMs), which could revolutionize the data storage in electronic devices. In this project, we have performed a characterization experiment of ferroelectric barium titanate thin films. We have used strontium titanate substrates where we have grown 30nm thick lanthanum strontium manganite film as metallic electrode for electric measurements, and we have grown on top barium titanate thin films with varying thickness between 20nm and 100nm. Platinum electrodes have been deposited afterwards in order to optimize the ferroelectric characterization of the samples. We have measured the temperature dependence variation of the remanent polarization and of the coercive field, for several samples with different thickness of barium titanate. Furthermore, we have studied the dynamics of ferroelectric domains, estimating the response time of ferroelectric domains to the applied electric field around 1ms.León Yebra , CarlosUniversidad Complutense de Madrid20122012-01-0120122012-01-01master thesishttp://purl.org/coar/resource_type/c_bdccinfo:eu-repo/semantics/masterThesisapplication/pdfhttps://hdl.handle.net/20.500.14352/46428reponame:Docta Complutenseinstname:Universidad Complutense de Madrid (UCM)Españolspaopen accesshttp://purl.org/coar/access_right/c_abf2info:eu-repo/semantics/openAccessoai:docta.ucm.es:20.500.14352/464282026-06-02T12:44:21Z
dc.title.none.fl_str_mv Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)
title Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)
spellingShingle Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)
Hernández Martín , David
539.216.2
537.31
Ferroelectricidad
Película Delgada
Polarización Remanente
Dominios Ferroeléctricos
Relajación Dieléctrica
Ferroelectricity
Thin Film
Remanent Polarization
Ferroelectric Domains
Dielectric Relaxation
Física de materiales
Electricidad
2202.03 Electricidad
title_short Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)
title_full Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)
title_fullStr Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)
title_full_unstemmed Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)
title_sort Caracterización dieléctrica de películas delgadas ferroeléctricas (Dielectric charasterizacion in ferroelectric thin films)
dc.creator.none.fl_str_mv Hernández Martín , David
author Hernández Martín , David
author_facet Hernández Martín , David
author_role author
dc.contributor.none.fl_str_mv León Yebra , Carlos
Universidad Complutense de Madrid
dc.subject.none.fl_str_mv 539.216.2
537.31
Ferroelectricidad
Película Delgada
Polarización Remanente
Dominios Ferroeléctricos
Relajación Dieléctrica
Ferroelectricity
Thin Film
Remanent Polarization
Ferroelectric Domains
Dielectric Relaxation
Física de materiales
Electricidad
2202.03 Electricidad
topic 539.216.2
537.31
Ferroelectricidad
Película Delgada
Polarización Remanente
Dominios Ferroeléctricos
Relajación Dieléctrica
Ferroelectricity
Thin Film
Remanent Polarization
Ferroelectric Domains
Dielectric Relaxation
Física de materiales
Electricidad
2202.03 Electricidad
description Los materiales ferroeléctricos se caracterizan por retener un dipolo eléctrico permanente en ausencia de campo eléctrico. Debido a esta peculiaridad, los materiales ferroeléctricos podrían ser usados como memorias ferroeléctricas de acceso aleatorio (FERAMs), lo que revolucionaría el almacenamiento de datos en los dispositivos electrónicos. En este trabajo, presentamos un experimento de caracterización de películas delgadas ferroeléctricas de titanato de bario. Utilizando sustratos de titanato de estroncio, hemos crecido 30 nm de manganita de lantano estroncio, que por su carácter metálico sirve como electrodo, y sobre ella películas delgadas de titanato de bario con espesores entre 20nm y 100nm. Utilizando una máscara mecánica se han depositado posteriormente electrodos de platino para la caracterización de sus propiedades ferroeléctricas. Se ha medido la variación con la temperatura de la polarización remanente y del campo coercitivo de muestras con distintos espesores de titanato de bario. Asimismo, se ha estudiado la dinámica de los dominios ferroeléctricos, estimando el tiempo de respuesta de los dominios ferroeléctricos al campo eléctrico en aproximadamente 1ms. [ABSTRACT] The ferroelectric materials retain a permanent electric dipole in the absence of an electric field. Due to this feature, they might be potentially used in ferroelectric random access memory (FERAMs), which could revolutionize the data storage in electronic devices. In this project, we have performed a characterization experiment of ferroelectric barium titanate thin films. We have used strontium titanate substrates where we have grown 30nm thick lanthanum strontium manganite film as metallic electrode for electric measurements, and we have grown on top barium titanate thin films with varying thickness between 20nm and 100nm. Platinum electrodes have been deposited afterwards in order to optimize the ferroelectric characterization of the samples. We have measured the temperature dependence variation of the remanent polarization and of the coercive field, for several samples with different thickness of barium titanate. Furthermore, we have studied the dynamics of ferroelectric domains, estimating the response time of ferroelectric domains to the applied electric field around 1ms.
publishDate 2012
dc.date.none.fl_str_mv 2012
2012-01-01
2012
2012-01-01
dc.type.none.fl_str_mv master thesis
http://purl.org/coar/resource_type/c_bdcc
dc.type.openaire.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/masterThesis
format masterThesis
dc.identifier.none.fl_str_mv https://hdl.handle.net/20.500.14352/46428
url https://hdl.handle.net/20.500.14352/46428
dc.language.none.fl_str_mv Español
spa
language_invalid_str_mv Español
language spa
dc.rights.none.fl_str_mv open access
http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
dc.rights.openaire.fl_str_mv info:eu-repo/semantics/openAccess
rights_invalid_str_mv open access
http://purl.org/coar/access_right/c_abf2
eu_rights_str_mv openAccess
dc.format.none.fl_str_mv application/pdf
dc.source.none.fl_str_mv reponame:Docta Complutense
instname:Universidad Complutense de Madrid (UCM)
instname_str Universidad Complutense de Madrid (UCM)
reponame_str Docta Complutense
collection Docta Complutense
repository.name.fl_str_mv
repository.mail.fl_str_mv
_version_ 1869425292884312064
score 15,300719