Caracterización in situ de la morfología y los procesos de relajación durante el crecimiento mediante epitaxia por haces moleculares de heteroestructuras de semiconductores III-V

200 páginas, 55 figuras, 4 tablas.-- Tesis para optar al grado de Doctora en Ciencias Físicas presentada el 11-11-2002 por María Ujué González Sagardoy.

Detalles Bibliográficos
Autor: González Sagardoy, María Ujué
Tipo de recurso: tesis doctoral
Fecha de publicación:2004
País:España
Institución:Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC)
Repositorio:DIGITAL.CSIC. Repositorio Institucional del CSIC
OAI Identifier:oai:digital.csic.es:10261/13116
Acceso en línea:http://hdl.handle.net/10261/13116
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Epitaxia de haces moleculares
Semiconductores
Procesos de relajación
Dispersión de luz
Hilos cuánticos
Descripción
Sumario:200 páginas, 55 figuras, 4 tablas.-- Tesis para optar al grado de Doctora en Ciencias Físicas presentada el 11-11-2002 por María Ujué González Sagardoy.