Optimisation de l'implantation ionique et du recuit thermique pour SiC

Detalles Bibliográficos
Autor: Blanqué, Servane
Tipo de recurso: tesis doctoral
Fecha de publicación:2005
País:España
Institución:Universitat Autònoma de Barcelona
Repositorio:Dipòsit Digital de Documents de la UAB
Idioma:francés
OAI Identifier:oai:ddd.uab.cat:37072
Acceso en línea:https://ddd.uab.cat/record/37072
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Ions
Carbur de silici
Descripción
Descripción no disponible.