Deep reactive ion etching of auxetic structures: present capabilities and challenges

Detalles Bibliográficos
Autores: Díaz Lantada, Andrés|||0000-0002-0358-9186, Muslija, Alban
Tipo de recurso: artículo
Fecha de publicación:2014
País:España
Institución:Universidad Politécnica de Madrid
Repositorio:Archivo Digital UPM
OAI Identifier:oai:oa.upm.es:35846
Acceso en línea:https://oa.upm.es/35846/
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:Auxetics
Negative Poisson ratio
Metamaterials
Morphing structures
Descripción
Descripción no disponible.