Hybrid femtosecond laser and ion-implantation processing for controlled, deep, high-efficiency ablation in fused silica
10 pages, 9 figures, 2 tables
| Autores: | , , , , , |
|---|---|
| Tipo de recurso: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2026 |
| País: | España |
| Institución: | Consejo Superior de Investigaciones Científicas (CSIC) |
| Repositorio: | DIGITAL.CSIC. Repositorio Institucional del CSIC |
| OAI Identifier: | oai:dnet:digitalcsic_::5567e55a846fb95f8a7d47b2b9d04123 |
| Acceso en línea: | http://hdl.handle.net/10261/430814 https://api.elsevier.com/content/abstract/scopus_id/105030475508 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Ablation efficiency Femtosecond laser processing Fused silica MeV ion implantation chemistry Physical chemistry |
| Sumario: | 10 pages, 9 figures, 2 tables |
|---|