Memory effects in nanolaminates of hafnium and iron oxide films structured by atomic layer deposition

Producción Científica

Detalles Bibliográficos
Autores:	Kalam, Kristjan, Otsus, Markus, Kozlova, Jekaterina, Tarre, Aivar, Kasikov, Aarne, Rammula, Raul, Link, Joosep, Stern, Raivo, Vinuesa Sanz, Guillermo, Lendínez Sánchez, José Miguel, Dueñas Carazo, Salvador, Castán Lanaspa, María Helena, Tamm, Aile, Kukli, Kaupo
Tipo de recurso:	artículo
Estado:	Versión publicada
Fecha de publicación:	2022
País:	España
Institución:	Universidad de Valladolid
Repositorio:	UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid
OAI Identifier:	oai:uvadoc.uva.es:10324/62051
Acceso en línea:	https://doi.org/10.3390/nano12152593 https://uvadoc.uva.es/handle/10324/62051
Access Level:	acceso abierto
Palabra clave:	Thin films Atomic layer deposition Oxide Hafnium Iron oxides Oxido ferroso Nanoparticles Nanoparticulas Nanotechnology Nanotecnología Ferromagnetism Magnetism Magnetic materials Materiales magnéticos Resistive switching Switching circuits Circuitos eléctricos Microelectronics 3303 Ingeniería y Tecnología Químicas 2202.08 Magnetismo 3307.90 Microelectrónica

Descripción
Sumario:	Producción Científica