Elucidating the atomistic mechanisms driving self-diffusion of amorphous Si during annealing

Producción Científica

Bibliographic Details
Authors: Santos Tejido, Iván, Pelaz Montes, María Lourdes, Marqués Cuesta, Luis Alberto, Colombo, Luciano
Format: article
Publication Date:2011
Country:España
Institution:Universidad de Valladolid
Repository:UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid
OAI Identifier:oai:uvadoc.uva.es:10324/31963
Online Access:https://doi.org/10.1103/PhysRevB.83.153201
http://uvadoc.uva.es/handle/10324/31963
Access Level:Open access
Keyword:Silicio cristalino
Crystalline silicon
Description
Summary:Producción Científica