Mechanical stress in InP and GaAs ridges formed by reactive ion etching

Producción Científica

Detalles Bibliográficos
Autores:	Landesman, Jean-Pierre, Fouchier, Marc, Pargon, Erwine, Gérard, Solène, Rochat, Névine, Levallois, Christophe, Mokhtari, Merwan, Pagnod-Rossiaux, Philippe, Laruelle, Francois, Petit-Etienne, Camille, Bettiati, Mauro, Jiménez López, Juan Ignacio, Cassidy, Daniel T.
Tipo de recurso:	artículo
Estado:	Versión publicada
Fecha de publicación:	2020
País:	España
Institución:	Universidad de Valladolid
Repositorio:	UVaDOC. Repositorio Documental de la Universidad de Valladolid
OAI Identifier:	oai:uvadoc.uva.es:10324/49419
Acceso en línea:	https://doi.org/10.1063/5.0032838 https://uvadoc.uva.es/handle/10324/49419
Access Level:	acceso abierto
Palabra clave:	Plasma processing Procesamiento de plasma Photonic materials Materiales fotónicos Photoluminescence Fotoluminiscencia Cathodoluminescence Catodoluminiscencia

Descripción
Sumario:	Producción Científica