Integration of nanomechanical sensors on CMOS by nanopatterning methods
La presente tesis ha sido realizada principalmente en el Centro Nacional de Microelectrónica de Barcelona (CNM-IMB) del CSIC, y en parte también en el Instituto de Nanotecnología de Lyon (Francia) del CNRS. El Dr Francesc Pérez-Murano ha codirigido la tesis en el CNM, y el Pr Georges Brémond en el I...
| Autor: | |
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| Formato: | tesis doctoral |
| Fecha de publicación: | 2007 |
| País: | España |
| Recursos: | Universitat Autònoma de Barcelona |
| Repositorio: | Dipòsit Digital de Documents de la UAB |
| Idioma: | inglés |
| OAI Identifier: | oai:ddd.uab.cat:37354 |
| Acesso em linha: | https://ddd.uab.cat/record/37354 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palavra-chave: | Sistemes nanoelectromecànics Detectors Nanotecnologia |
| Resumo: | La presente tesis ha sido realizada principalmente en el Centro Nacional de Microelectrónica de Barcelona (CNM-IMB) del CSIC, y en parte también en el Instituto de Nanotecnología de Lyon (Francia) del CNRS. El Dr Francesc Pérez-Murano ha codirigido la tesis en el CNM, y el Pr Georges Brémond en el INL. Este trabajo se enmarca en el proyecto europeo NaPa ('Emerging Nanopatterning Methods') cuyo objetivo es desarrollar técnicas emergentes, industrializables a medio plazo, de litografía a nivel nanométrico, y sus posibles aplicaciones. Así pues, los objetivos principales de la tesis han sido los desarrollos simultáneos (i) de sistemas nanoelectromecánicos (NEMS) integrados en CMOS, y (ii) de procesos de fabricación basados en una técnica avanzada de nanolitografía llamada 'nanostencil lithography' para poder fabricar tales sistemas monolíticos. Como primer paso, dos tipos de resonadores nano/micromecánicos ('cantilevers' y 'quad-beams') se han modelado analíticamente para poder estudiar su respuesta frecuencial mecánica. Con el objetivo de excitarlos y detectarlos eléctricamente, se ha optado por una técnica capacitiva. Para poder prever el comportamiento eléctrico de la estructura mecánica se ha implementado un modelo mixto electromecánico. Luego se han estudiado las ventajas y la viabilidad de una integración monolítica con circuitería CMOS. En efecto, los NEMS/CMOS son sistemas que combinan extraordinarias propiedades de sensado, proporcionadas por la parte móvil mecánica, con la posibilidad de detectar la señal de salida en condiciones mucho más favorables: las capacidades parásitas son reducidas drásticamente al tratar dicha señal a través de una circuitería CMOS 'on-chip'. Por este motivo, se ha diseñado especialmente un circuito CMOS de lectura y de bajo consumo. Funciona como amplificador de transimpedancia para convertir la corriente creada por la resonancia mecánica en un voltaje de salida suficientemente alto. A partir de simulaciones, se ha analizado exhaustivamente (i) el comportamiento intrínseco de este circuito y (ii) cuando está acoplado al resonador mecánico. Sin embargo, la fabricación de tales nanodispositivos integrados en CMOS constituía un reto ya que la integración a nivel de oblea entera de NEMS sobre CMOS mediante procesos no excesivamente costosos no había sido demostrada aún al inicio de esta tesis. Debido a esto, se puso en marcha una colaboración con el EPFL (École Polytechnique Fédérale de Lausanne, Suiza) para desarrollar la litografía 'nanostencil' con el objetivo de integrar a escala de oblea entera estructuras mesoscópicas (micro y nano) sobre circuitos CMOS pre-fabricados. Después de identificar los principales problemas iniciales, se ha podido desarrollar con éxito una tecnología de post-proceso que permite integrar NEMS en CMOS mediante una única etapa de litografía nanostencil. En paralelo, otro post-proceso basado en una etapa de litografía por haz de electrones ('e-beam lithography') se ha puesto a punto de manera que se pueden fabricar nuevos prototipos de nanodispositivos sobre CMOS en cortos plazos de tiempo. La caracterización eléctrica de estos NEMS/CMOS se ha llevado a cabo tanto en aire como en vacío y se ha demostrado el correcto funcionamiento del dispositivo NEMS/CMOS fabricado. Han sido analizados los niveles de señal obtenidos experimentalmente y las características principales de los espectros de resonancia. Finalmente, estos NEMS/CMOS han sido implementados como sensores de masa. Actualmente, esta aplicación de los NEMS es una de las más exploradas ya que los resonadores nano/micromecánicos ofrecen grandes ventajas en términos de sensibilidad e integración de sistemas comparados con las tradicionales microbalanzas de cuarzo. En este contexto, se han llevado a cabo cuatro experimentos diferentes: (i) en colaboración con un grupo de investigación en química física se ha estudiado mediante un resonador nano/micromecánico, utilizado como nano/microbalanza, la evaporación de gotas de volúmenes extremadamente reducidos, del orden del femtolitro (10-15), para profundizar en los conocimientos necesarios para el desarrollo de dispositivos de nano/microfluídica; (ii) una arquitectura nueva de resonador, basada en una palanca doble ('doble cantilever'), se ha diseñado y testeado. Este dispositivo novedoso permite hacer medidas de masa en condiciones ambientales con una auto-referencia proporcionando la incertidumbre de la medida; (iii) se han hecho pruebas de deposición en alto vacío de capas ultra-finas de oro (de espesor equivalente inferior a una mono-capa) sobre resonadores. De esa manera, se ha demostrado la gran sensibilidad en masa distribuida de estos dispositivos, en particular al comparar su respuesta con la de una microbalanza de cuarzo a la que superan por entre dos y tres ordenes de magnitud a nivel de sensibilidad; (iv) basándose en los resultados del experimento previo de deposición de oro, se está diseñando, y sigue en curso, un sistema 'quasi-dinámico' de litografía nanostencil junto con el EPFL. Este sistema consiste en efectuar deposiciones sucesivas de distintos materiales a través de un nanostencil desplazado entre cada deposición: de esa manera se obtienen multi-depósitos estructurados y ultra-puros. De manera muy novedosa, el sensor de masa NEMS/CMOS se utiliza aquí como sensor de alineamiento entre la membrana nanostencil y el substrato a litografiar. |
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