Propiedades ópticas de películas delgadas de a-si:h producidas por evaporacion
Mediciones de transmitancia y reflectancia para películas delgadas de a-Si:H depositadas por evaporación rápida bajo varias condiciones de temperaturas de sustrato Ts y presiones parciales de hidrógeno Ph se llevaron a cabo.EI corrimiento del borde de absorción tanto con Ts y Ph se estudió y correla...
| Autores: | , , |
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| Formato: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 1991 |
| País: | Colombia |
| Recursos: | Universidad Nacional de Colombia |
| Repositorio: | Repositorio UN |
| Idioma: | español |
| OAI Identifier: | oai:repositorio.unal.edu.co:unal/44866 |
| Acesso em linha: | https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/44866 http://bdigital.unal.edu.co/34965/ |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palavra-chave: | Películas delgadas de a-Si:H transmitancia reflectancia parámetros de deposición |
| Resumo: | Mediciones de transmitancia y reflectancia para películas delgadas de a-Si:H depositadas por evaporación rápida bajo varias condiciones de temperaturas de sustrato Ts y presiones parciales de hidrógeno Ph se llevaron a cabo.EI corrimiento del borde de absorción tanto con Ts y Ph se estudió y correlacionó con el contenido de hidrógeno y los parámetros de deposición. |
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