Evaluación de la resistencia a la corrosión de recubrimientos de BixTiyOz, depositados mediante el sistema de Sputtering Magnetrón
En el presente trabajo de maestría se depositaron películas delgadas de titanato de bismuto (BixTiyOz) sobre sustratos de acero inoxidable 316L y aleación de titanio Ti6Al4V, mediante la técnica de Sputtering magnetrón RF; las películas fueron fabricadas con el objetivo de evaluar su resistencia a l...
| Autor: | |
|---|---|
| Tipo de recurso: | tesis de maestría |
| Estado: | Versión aceptada para publicación |
| Fecha de publicación: | 2017 |
| País: | Colombia |
| Institución: | Universidad Nacional de Colombia |
| Repositorio: | Repositorio UN |
| Idioma: | español |
| OAI Identifier: | oai:repositorio.unal.edu.co:unal/62820 |
| Acceso en línea: | https://repositorio.unal.edu.co/handle/unal/62820 http://bdigital.unal.edu.co/62046/ |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | 62 Ingeniería y operaciones afines / Engineering Sputtering Corrosión Picadura Temperatura Potencia Flujo Corrosion Pitting Temperature Power Flow |
| Sumario: | En el presente trabajo de maestría se depositaron películas delgadas de titanato de bismuto (BixTiyOz) sobre sustratos de acero inoxidable 316L y aleación de titanio Ti6Al4V, mediante la técnica de Sputtering magnetrón RF; las películas fueron fabricadas con el objetivo de evaluar su resistencia a la corrosión al ser expuestas al ataque de una solución de NaCl al 3.5% P/V. Las películas delgadas fueron obtenidas a partir de un blanco con estequiometria Bi4Ti3O12 bajo condiciones variables de temperatura del sustrato, flujo de argón y potencia aplicada al blanco. Las películas fueron caracterizadas estructuralmente mediante difracción de rayos X (DRX), morfológicamente mediante microscopia electrónica de barrido (MEB) y perfilometría óptica. El análisis químico se hizo mediante espectroscopia de retrodispersión de Rutherford (ERR). La resistencia a la corrosión de las películas fue evaluada mediante polarización potenciodinámica (PP) y espectroscopia de impedancias electroquímicas (EIS). Se encontró que el mecanismo de corrosión que se da en los sistemas sustrato-película es del tipo picadura, debido a que se presenta corrosión localizada por la presencia de poros tanto en las películas producidas como en las capas pasivantes propias de cada sustrato. |
|---|