Estudio de la estructura de recubrimientos de silicio depositados mediante proyección térmica por llama oxiacetilénica
RESUMEN: Se estudió el efecto del tipo de llama, del tipo de sustrato y de la distancia de proyección sobre la porosidad y el espesor de recubrimientos de silicio depositados por medio de proyección térmica por llama oxiacetilénica. Para la elaboración de los recubrimientos se utilizó una llama redu...
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| Tipo de recurso: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2014 |
| País: | Colombia |
| Institución: | Universidad de Antioquia |
| Repositorio: | Repositorio UdeA |
| Idioma: | español |
| OAI Identifier: | oai:bibliotecadigital.udea.edu.co:10495/5776 |
| Acceso en línea: | http://hdl.handle.net/10495/5776 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Proyección térmica por llama oxiacetilénica Recubrimientos de silicio Espesor Porosidad Estructura Aluminio Silicio |
| Sumario: | RESUMEN: Se estudió el efecto del tipo de llama, del tipo de sustrato y de la distancia de proyección sobre la porosidad y el espesor de recubrimientos de silicio depositados por medio de proyección térmica por llama oxiacetilénica. Para la elaboración de los recubrimientos se utilizó una llama reductora, una neutra y una oxidante, con el objetivo de calentar y posteriormente proyectar las partículas de silicio sobre sustratos de aluminio y de Ti6Al4V, a una distancia de proyección de 15 cm y 8.5 cm. Los resultados indican que los recubrimientos depositados a 8.5 cm son más compactos y que la utilización de una llama neutra reduce ligeramente la porosidad y permite tener capas más gruesas. Así mismo, los recubrimientos depositados sobre sustratos de Ti6Al4V presentaron menor porosidad y menos fallas estructurales que los depositados sobre aluminio. |
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