Planta Didática Smar PD3: ajuste dos parâmetros do controlador PI do tanque de aquecimento – Parte B
O controle PID (proporcional, integral e derivativo) é importante para assegurar a padronização e segurança de diversos processos químicos de uma indústria, assim como a qualidade de seus produtos. Este trabalho foi realizado no tanque de aquecimento da planta didática Smar PD3 com a sintonia do con...
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| Tipo de recurso: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2017 |
| País: | Brasil |
| Institución: | Universidade Federal de Viçosa (UFV) |
| Repositorio: | LOCUS Repositório Institucional da UFV |
| Idioma: | portugués |
| OAI Identifier: | oai:locus.ufv.br:123456789/13849 |
| Acceso en línea: | https://doi.org/10.18540/2446941603032017476 http://www.locus.ufv.br/handle/123456789/13849 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | Processos químicos Controlador PI Estabilidade |
| Sumario: | O controle PID (proporcional, integral e derivativo) é importante para assegurar a padronização e segurança de diversos processos químicos de uma indústria, assim como a qualidade de seus produtos. Este trabalho foi realizado no tanque de aquecimento da planta didática Smar PD3 com a sintonia do controlador PI (proporcional e integral) e a análise de estabilidade do sistema de controle. De posse das funções de transferência do tanque de aquecimento, para as vazões de 200, 400, 600 e 1000 L.h^-1 , foi realizada a sintonia do controlador PI para a vazão de 600 L.h^-1 e posterior validação do controle experimentalmente na planta, que mostrou resultados satisfatórios. Para as outras vazões foram utilizados os mesmos parâmetros do controlador encontrados para a vazão de 600 L.h^-1 , sendo então calculadas as raízes empregando algoritmo descrito em Matlab®, o que comprovou a validade do controle para todas as vazões estudadas. |
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