Propriedades elétricas de óxido de grafeno por microscopia de varredura por sonda
<div style="">As potenciais aplicações de nanomateriais, como grafeno e seus derivados, em dispositivos eletrônicos motivou um estudo detalhado de suas propriedades eletrônicas. O Óxido Grafeno também têm sido proposto para várias aplicações, das quais podemos destacar a aplicação em...
| Autor: | |
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| Formato: | tesis doctoral |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2015 |
| País: | Brasil |
| Recursos: | Universidade Estadual do Ceará |
| Repositorio: | Repositório Institucional da UECE |
| Idioma: | portugués |
| OAI Identifier: | oai:uece.br:83713 |
| Acesso em linha: | https://siduece.uece.br/siduece/trabalhoAcademicoPublico.jsf?id=83713 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palavra-chave: | Constante Dielétrica Óxido de Grafeno |
| Resumo: | <div style="">As potenciais aplicações de nanomateriais, como grafeno e seus derivados, em dispositivos eletrônicos motivou um estudo detalhado de suas propriedades eletrônicas. O Óxido Grafeno também têm sido proposto para várias aplicações, das quais podemos destacar a aplicação em compósitos de filmes finos que apresentem propriedades de supercapacitores. Entretanto, muitas das propriedades do óxido de grafeno podem variar de amostra para amostra, o que se apresenta como uma importante dificuldade para sua aplicação tecnológica. Além disso, a caracterização destas propriedades em nanomateriais também é uma tarefa desafiadora, uma vez que a maioria das técnicas de caracterização têm sido desenvolvidas para filmes com espessura acima de 200nm, a qual é muito mais espessa do que as camadas atomicamente finas do óxido de grafeno. Neste trabalho, estudamos as propriedades elétricas e dielétricas do óxido de grafeno por microscopia de varredura por sonda. Nós estimamos a densidade superficial de cargas do óxido de grafeno de uma camada, bem como a natureza destas cargas por microscopia de força eletrostática. Utilizamos a microscopia de força Kelvin (KPFM) para caracterizar filmes finos transparentes baseados em Óxido de Grafeno e Acetato de Celulose. Utilizamos também KPFM para determinar o potencial de superfície do óxido de grafeno em função da umidade do ar. Finalmente, utilizamos o gradiente da capacitância (dC/dz), que é obtido através do segundo harmônico em EFM, para calcular a constante dielétrica do óxido de grafeno de uma camada e algumas camadas. Como a constante dielétrica não pode ser extraída diretamente das medidas, nós desenvolvemos neste trabalho um modelo analítico para descrever o sinal elétrico de (dC/dz) e mostramos que o este pode ser utilizado para estimar a constante dielétrica do óxido de grafeno monocamada e de algumas camadas. </div><div style="">Palavras-chave: Óxido de Grafeno, EFM, KFM, Segundo Harmônico de EFM e Constante Dielétrica</div> |
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