Visible emission from Er-doped SnO2 thin films deposited by sol-gel

Foi obtida emissão de filmes finos de SnO2 dopados com Er no intervalo 500-700 nm, com pico em 530 nm (verde). Esses filmes foram depositados pela técnica de molhamento via sol-gel. A geração de pares elétron-buraco na matriz de SnO2 é usada para promover a excitação do íon terra-rara. A avaliação d...

Descripción completa

Detalles Bibliográficos
Autores: Ravaro, L. P. [UNESP], Morais, E. A. [UNESP], Scalvi, Luis Vicente de Andrade [UNESP], Li, M. Siu
Tipo de recurso: artículo
Estado:Versión publicada
Fecha de publicación:2007
País:Brasil
Institución:Universidade Estadual Paulista (UNESP)
Repositorio:Repositório Institucional da UNESP
Idioma:inglés
OAI Identifier:oai:repositorio.unesp.br:11449/30025
Acceso en línea:http://dx.doi.org/10.1590/S0366-69132007000200013
http://hdl.handle.net/11449/30025
Access Level:acceso abierto
Palabra clave:dióxido de estanho
filmes finos
sol-gel
érbio
tin dioxide
thin films
erbium
Descripción
Sumario:Foi obtida emissão de filmes finos de SnO2 dopados com Er no intervalo 500-700 nm, com pico em 530 nm (verde). Esses filmes foram depositados pela técnica de molhamento via sol-gel. A geração de pares elétron-buraco na matriz de SnO2 é usada para promover a excitação do íon terra-rara. A avaliação do tamanho dos cristalitos por meio de resultados de difração de raios X indica dimensões nanoscópicas, o que pode ser relevante para a interpretação do espectro de emissão. O mecanismo de excitação elétron-buraco é também responsável pela excitação da transição no intervalo que inclui 1540 nm em pós obtidos da mesma solução precursora dos filmes. Filmes finos constituem um formato muito útil para aplicações tecnológicas, desde que permite integração em dispositivos ópticos e a aplicação de campos elétricos para operar dispositivos eletroluminescentes.