Modelo do descasamento (Mismatch) entre transistores MOS: [tese]

Tese (Doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico. Programa de Pós-graduação em Engenharia Elétrica

Detalhes bibliográficos
Autor: Klimach, Hamilton
Formato: tesis doctoral
Estado:Versión publicada
Fecha de publicación:2008
País:Brasil
Recursos:Universidade Federal de Santa Catarina (UFSC)
Repositorio:Repositório Institucional da UFSC
Idioma:portugués
OAI Identifier:oai:repositorio.ufsc.br:123456789/91474
Acesso em linha:http://repositorio.ufsc.br/xmlui/handle/123456789/91474
Access Level:acceso abierto
Palavra-chave:Engenharia eletrica
Transistores de efeito de campo de semicondutores de oxido metalico
Circuitos integrados
Descrição
Resumo:Tese (Doutorado) - Universidade Federal de Santa Catarina, Centro Tecnológico. Programa de Pós-graduação em Engenharia Elétrica