Investigação dos padrões esteriométricos e fractais de filmes finos de LuMnO3 produzidos por spin-coated
Neste trabalho, propomos realizar análises qualitativas e quantitativas de superfícies de filmes finos de LuMnO3, depositados por spin-coated sobre Pt (111) / TiO2 / SiO2/ Si substratos, para avaliar seus padrões espaciais em função da temperatura de sinterização do filme. A microscopia de força atô...
| Autores: | , |
|---|---|
| Formato: | tesis de maestría |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2022 |
| País: | Brasil |
| Recursos: | Universidade Federal do Amazonas (UFAM) |
| Repositorio: | Biblioteca Digital de Teses e Dissertações da UFAM |
| Idioma: | portugués |
| OAI Identifier: | oai:https://tede.ufam.edu.br/handle/:tede/9020 |
| Acesso em linha: | https://tede.ufam.edu.br/handle/tede/9020 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palavra-chave: | LuMnO3 Microscopia de Força Atômica Multiferróico ENGENHARIAS:ENGENHARIA DE MATERIAIS E METALURGICA:METALURGIA FISICA Óxidos multiferróicos microscopia de força atômica Multiferroic oxide Atomic force microscopy |
| Resumo: | Neste trabalho, propomos realizar análises qualitativas e quantitativas de superfícies de filmes finos de LuMnO3, depositados por spin-coated sobre Pt (111) / TiO2 / SiO2/ Si substratos, para avaliar seus padrões espaciais em função da temperatura de sinterização do filme. A microscopia de força atômica foi empregada para obter mapas topográficos que foram amplamente analisados por meio de técnicas de processamento de imagens e ferramentas matemáticas. Imagens topográficas 3D (tridimensionais) revelaram que os filmes sinterizados a 650 ° C e 750 ° C apresentaram a formação de superfícies mais lisas, enquanto o filme sinterizado a 850 ° C apresentou uma superfície mais rugosa com uma rugosidade quadrada média de ∼2,5 nm. Na outra direção, a distribuição de altura da superfície para todos os filmes têm assimetrias e formas semelhantes, embora o filme sinterizado usando a temperatura mais alta tenha apresentado a menor densidade de picos ásperos e um formato de pico mais nítido. A análise de parâmetros fractais estão em fase de desenvolvimento. Os resultados iniciais sugerem que a combinação de parâmetros estereométricos e fractais pode ser especialmente útil para a identificação de padrões espaciais topográficos únicos em LuMnO3 filmes finos, auxiliando na sua implementação em aplicações tecnológicas, como células solares fotovoltaicas e armazenamento magnético de informações e dispositivos spintrônicos. |
|---|