Deposición de hidrógeno a subpotencial sobre oro policristalino y con orientación preferida
Se estudia la deposición de hidrógeno a potenciales menores que los correspondientes a la reacción de evolución de hidrógeno sobre oro policristalino cuya superficie ha sido preferentemente orientada según los tres planos de bajo índice. Varios procesos contribuyen a las corrientes anódica y catódic...
| Autores: | , , , |
|---|---|
| Tipo de recurso: | artículo |
| Estado: | Versión publicada |
| Fecha de publicación: | 2008 |
| País: | Argentina |
| Institución: | Consejo Nacional de Investigaciones Científicas y Técnicas |
| Repositorio: | CONICET Digital (CONICET) |
| Idioma: | español |
| OAI Identifier: | oai:ri.conicet.gov.ar:11336/158670 |
| Acceso en línea: | http://hdl.handle.net/11336/158670 |
| Access Level: | acceso abierto |
| Palabra clave: | DEPOSICIÓN DE HIDRÓGENO ELECTRODOS DE ORO RECONSTRUCCIÓN SUPERFICIAL DOBLE CAPA ELÉCTRICA https://purl.org/becyt/ford/1.4 https://purl.org/becyt/ford/1 |
| Sumario: | Se estudia la deposición de hidrógeno a potenciales menores que los correspondientes a la reacción de evolución de hidrógeno sobre oro policristalino cuya superficie ha sido preferentemente orientada según los tres planos de bajo índice. Varios procesos contribuyen a las corrientes anódica y catódica en la región de potenciales de carga de doble capa: la adsorción específica de aniones y su desorción, el levantamiento de la reconstrucción superficial, la oxidación del hidrógeno y la deposición de hidrógeno a subpotencial. Las alturas relativas de las distintas contribuciones de corriente cambian con la orientación preferencial. Los máximos correspondientes a la oxidación del hidrógeno depositado crecen continuamente mientras que aquéllos que corresponden al levantamiento de la reconstrucción superficial alcanzan una altura límite. Se concluye que es posible distinguir las contribuciones farádicas de aquéllas de origen capacitivo en la región de potenciales correspondiente a la carga de la doble capa en una solución de ácido sulfúrico 0.5 M. |
|---|